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應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環(huán)裝置-90℃～250℃

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應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環(huán)裝置（可控物料溫度）全密閉智能加熱制冷循環(huán)裝置

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