反應釜制冷加熱循環(huán)裝置以冷卻劑作為傳熱介質，將其他需要冷卻的儀器或設備產生的熱量輸送出去，通過制冷系統(tǒng)將熱量送到設備外部，確保設備在正常溫度范圍內工作。該裝置和儀表之間依靠裝置內泵的壓力形成閉式介質循環(huán)，通過溫度傳感器檢測介質溫度，實現(xiàn)冷卻器的控制。

　　反應釜制冷加熱循環(huán)裝置應安裝在環(huán)境良好的實驗室內；反應釜制冷加熱循環(huán)裝置應安裝在通風良好、無塵的穩(wěn)固地面或實驗臺面上，避免飛沫、多蒸氣及可能發(fā)生流入、流滯、泄漏易燃氣體的地方，避免靠近可產生高頻設備的地方(高頻電焊機等)。

　　反應釜制冷加熱循環(huán)裝置在避免頻繁使用酸性溶液和頻繁使用特殊噴霧器(含硫化物等)的情況下，從維護和安裝時的方便和安全方面考慮，應盡量確保在室內機和障礙物之間有足夠的空間。

　　使用300℃高低溫循環(huán)一體機離不開其規(guī)范的使用操作，300℃高低溫循環(huán)一體機在銷售時會與設備出廠時相應的300℃高低溫循環(huán)一體機使用說明書相對應，用戶在使用時可事先了解下。

　　反應釜制冷加熱循環(huán)裝置廣泛應用于各種實驗儀器設備，如：旋轉蒸發(fā)儀、X射線衍射儀、ICP發(fā)射光譜儀、ICP質譜儀、石墨爐原子吸收光譜儀、熒光分析儀、電子顯微鏡、生產試驗設備、數控機床、激光設備等。該機為一體式設備，冷凝器-壓縮機、蒸發(fā)器-循環(huán)水泵機組均安裝在同一機箱內，此類機組一般安裝在室內。

高低溫300℃循環(huán)一體機能實現(xiàn)200℃高溫、-20℃低溫恒溫測試，為用戶提供熱冷卻受控、恒溫均勻的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，全量程范圍內的溫度控制，應用于石化、制藥等化學反應過程控制，半導體擴散爐擴散過程控制，在反應釜、全自動合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應用。